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Cu(In,Ga)Se2 based ultrathin solar cells the pathway from lab rigid to large sc...
Lopes, T. S.; Teixeira, J. P.; Curado, M. A.; Ferreira, B. R.; Oliveira, A. J. N.; Cunha, J. M. V.; Monteiro, M.; Violas, A.; Barbosa, J. R. S.The incorporation of interface passivation structures in ultrathin Cu(In,Ga)Se2 based solar cells is shown. The fabrication used an industry scalable lithography technique—nanoimprint lithography (NIL)—for a 15 × 15 cm2 dielectric layer patterning. Devices with a NIL nanopatterned dielectric layer are benchmarked against electron-beam lithography (EBL) patterning, using rigid substrates. The NIL patterned devic...
Cu(In,Ga)Se2 based ultrathin solar cells the pathway from lab rigid to large sc...
Lopes, T.S.; Teixeira, J. P.; Curado, M. A.; Ferreira, B. R.; Oliveira, A. J. N.; Cunha, J. M. V.; Monteiro, M.; Violas, A.; Barbosa, J. R. S.The incorporation of interface passivation structures in ultrathin Cu(In,Ga)Se2 based solar cells is shown. The fabrication used an industry scalable lithography technique—nanoimprint lithography (NIL)—for a 15 × 15 cm2 dielectric layer patterning. Devices with a NIL nanopatterned dielectric layer are benchmarked against electron-beam lithography (EBL) patterning, using rigid substrates. The NIL patterned devic...
Cu(In,Ga)Se2 based ultrathin solar cells the pathway from lab rigid to large sc...
Lopes, T. S.; Teixeira, J. P.; Curado, M. A.; Ferreira, B. R.; Oliveira, A. J. N.; Cunha, J. M. V.; Monteiro, M.; Violas, A.; Barbosa, J. R. S.The incorporation of interface passivation structures in ultrathin Cu(In,Ga)Se2 based solar cells is shown. The fabrication used an industry scalable lithography technique—nanoimprint lithography (NIL)—for a 15 × 15 cm2 dielectric layer patterning. Devices with a NIL nanopatterned dielectric layer are benchmarked against electron-beam lithography (EBL) patterning, using rigid substrates. The NIL patterned devic...
O poder da nanofabricação: substratos de alta performance para células solares ...
Teixeira, J.T.; Lopes, T.S.; Oliveira, K.; Curado, M.A.; Cunha, J.M.V.; Ribeiro, R.M.; Oliveira, A.J.N.; Barbosa, J.R.S.; Violas, A.; Rocha, C.RESUMO: O grupo de Nanofabrication for Optoelectronic Applications -NOA- inserido no International Iberian Nanotechnology Laboratory (INL) tem focado grande parte da sua investigação e operações no desenvolvimento de substratos de alta performance, baseados em diferentes esquemas de manipulação da luz para aplicação em células solares de Cu(In,Ga)Se2 (CIGS). Estes substratos baseiam-se na inserção de uma camada...
O poder da nanofabricação: substratos de alta performance para células solares ...
Teixeira, J.T.; Lopes, T.S.; Oliveira, K.; Curado, M.A.; Cunha, J.M.V.; Ribeiro, R.M.; Oliveira, A.J.N.; Barbosa, J.R.S.; Violas, A.; Rocha, C.RESUMO: O grupo de Nanofabrication for Optoelectronic Applications -NOA- inserido no International Iberian Nanotechnology Laboratory (INL) tem focado grande parte da sua investigação e operações no desenvolvimento de substratos de alta performance, baseados em diferentes esquemas de manipulação da luz para aplicação em células solares de Cu(In,Ga)Se2 (CIGS). Estes substratos baseiam-se na inserção de uma camada...