Detalhes do Documento

Description and characterization of a ECR plasma device developed for thin film deposition

Autor(es): Kiyohara, Pedro Kunihiko

Data: 2003

Origem: Oasisbr

Assunto(s): FILMES FINOS; FILMES FINOS; FILMES FINOS


Tipo de Documento Artigo científico
Idioma Inglês
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