Detalhes do Documento

Amorphous carbon nitride (a-CNx) thin films deposited by ECR plasma reactor

Autor(es): Galvao, Ricardo Magnus Osorio

Data: 2005

Origem: Oasisbr

Assunto(s): TOKAMAKS; TOKAMAKS; TOKAMAKS


Tipo de Documento Outro
Idioma Inglês
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